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2007-12-19 肖晨 來源:經(jīng)濟參考報 |
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本報訊
西班牙攝影師拉菲爾·納瓦羅作品展《自省》日前在北京塞萬提斯學(xué)院拉開帷幕。 據(jù)悉,拉菲爾·納瓦羅作品在近代西班牙攝影界具有很高聲望。 本次展覽選取了納瓦羅最具代表性的47幅作品進(jìn)行展出。展覽包含兩個完整的系列:“觸”和
“醒”,以及一組20幅的兩格作品。“觸”系列為我們敞開了通向私密世界的門,在那里我們可以觀察作者的周遭經(jīng)歷;在作品“醒”中我們看到了皮膚與石頭,這恰是納瓦羅作品中常見的對比;20幅兩格攝影作品則是納瓦羅最具革新精神的一個系列。 正如北京塞萬提斯學(xué)院校長易瑪·孔薩雷斯·布依所說,納瓦羅作品的感人力量來自于簡潔的構(gòu)圖及由白到黑的細(xì)膩過渡。 作為中國西班牙年的文化活動之一,本次展覽由西班牙駐華大使館和北京塞萬提斯學(xué)院共同主辦。展覽將持續(xù)到2008年1月22日。 |
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